在外部环境复杂多变，全球产业链重构的背景下，光刻胶作为新型显示和半导体领域的关键核心材料，是尖端领域壁垒最高的原材之一，亟需跟进产业发展步伐，实现产业链高质量发展。

5月26日，由中国电子材料行业协会、电子化工新材料产业联盟主办的“2023·光刻胶和聚酰亚胺先进技术和产业应用研讨会”在江苏省常州市举办。在本次大会上，阜阳欣奕华材料科技有限公司首席运营官陆金波发表了题为《光刻胶产业链合作与共赢——高质量发展》的演讲。

新型显示和集成电路产业均是国家重点布局领域。据行业统计，2022年度中国半导体产业投资高达1.5万亿元，光电产业投资3636亿元，市场规模巨大。但其核心原材光刻胶在国内供应体系建设尚不完善，需行业上下游协力促进产业链生态健康发展，建立产业集群。

对此，陆金波表示，一方面需要上下游高度协同，实现产业链高质量发展；另一方面需要跟进技术趋势需求，进行技术迭代和产品创新，实现产品技术高质量发展。

欣奕新材助力光刻胶产业高质量发展：产业链协同建议

历经10年探索发展，欣奕新材已在产业人培养、研发创新、品质管控、生产制造、系列产品和自主知识产权布局等方面形成核心能力，成为多维一体能力型光刻胶企业。这些自身能力建设的提升，离不开外部产业链上下游合作和支持。

公司与国内外供应商都有深度合作，由于国内光刻胶产业起步晚，其上游原材国产化率仅5%左右。作为细分领域，难以形成规模优势，光刻胶产业供应链生态建设之路充满荆棘。欣奕新材不断拓展渠道，已经搭建了稳定的战略供应商资源库。

公司光刻胶自2017年大规模量产导入，出货量势如破竹，增长迅速，在京东方、华星等多家面板客户全系列产线上面均实现了稳定供货。即使在2022年大环境不乐观的情况下，光刻胶营收实现逆势增长，在中国大陆光刻胶企业中排名第一。这些成绩的取得要感谢客户、供应商、政府、行业协会等各方给予欣奕新材的机会和支持。

欣奕新材助力光刻胶产业高质量发展：产品技术解决方案

欣奕新材作为一家致力于泛半导体领域关键原材国产化的企业，将研发产品、技术成果产业化作为重要的企业责任，以助力产业高质量发展。深耕光刻胶领域，欣奕新材是国内为数不多，在显示光刻胶和半导体光刻胶双赛道进行布局企业：

在显示光刻胶方面，可根据市场客户需求，提供低蓝光、高阻细线、低反射等CF用光刻胶定制化解决方案；针对多种新型显示技术，已有低温光刻胶、量子点光刻胶、PDL、Bank、回流胶等多款特种光刻胶产品实现技术突破与产业化。

在半导体光刻胶方面，公司专注半导体光刻胶配方、工艺、树脂结构设计等核心技术及产品研发和生产，为先进封装和成熟工艺提供IC/先进封装用i-line光刻胶，KrF和ArF光刻胶产品和技术解决方案。

在产业化的浪潮中，中国企业抢滩科技制高点，需要产业链深度合作，协同发展，才能打破壁垒，实现共赢。欣奕新材作为一家拥有顶尖研发创新团队，超强产品技术攻关能力，多年稳定量产经验光刻胶厂商，形成了纳米分散、配方调控、色彩模拟、超净控制等七大核心技术。公司将持续赋能产业链创新、升级、安全、稳定，实现产业链高质量发展！